Magni tal-Magetron Sputtering
-
Magnetron tal-film irqiq vakwu sputtering coatingng magna
It-teknika ta 'sputtering tal-magnetron vakwu hija l-użu tal-wiċċ tal-elettrodu femminili, bipolari bil-kamp manjetiku tal-elettron fid-drift tal-wiċċ tal-katodu, billi jistabbilixxi l-kamp elettriku tal-wiċċ fil-mira perpendikolari mal-kamp manjetiku, l-elettron iżid il-puplesija, iżid ir-rata ta' jonizzazzjoni tal-gass, filwaqt li l-partiċelli ta 'enerġija għolja gass u jitilfu l-enerġija wara l-ħabta u għalhekk aktar baxxi temperatura tas-sottostrat, kisi kompluta fuq materjal mhux reżistenti għat-temperatura.
-
Sistema ta 'sputtering ta' magnetron ta 'depożizzjoni bil-vakwu
Sistema ta 'sputtering ta' magnetron ta 'depożizzjoni bil-vakwu hija tip ta' tagħmir tal-vakwu li jista 'jintuża għall-applikazzjoni ta' saffi ta 'kisi ta' film irqiq fuq materja prima differenti b'kisjiet metalliċi jew funzjonali.
-
Magnetron sputtering kisi magna għall-pożati tal-plastik li jintremew
Magnetron sputtering hija teknoloġija ta 'depożizzjoni ta' film irqiq użata ħafna fil-preżent.Bl-iżvilupp kontinwu tat-teknoloġija tal-sputtering u l-esplorazzjoni ta 'films funzjonali ġodda, l-applikazzjoni tal-magnetron sputtering ġiet estiża għal ħafna oqsma ta' produzzjoni u riċerka xjentifika.Bħala teknoloġija ta 'kisi mhux termali fil-qasam tal-mikroelettronika, tintuża prinċipalment fid-depożizzjoni tal-fwar kimiku (CVD) jew depożitu ta' fwar kimiku organiku tal-metall (MOCVD) biex jiddepożita films irqaq ta 'materjali li huma diffiċli biex jikbru u mhux adattati, u jistgħu jiksbu films irqaq uniformi ħafna f'żoni kbar.
