Magna tal-kisi bil-vakwu PVD tan-nitrur tat-titanju
Karatteristiċi
Struttura varjabbli tal-kisi (nanostrutturi, b'ħafna saffi, monosaff)
Adeżjoni tajba ħafna fuq is-sottostrat
- Riproduzzjoni tajba ħafna ta 'uċuħ minsuġa u illustrati
- Manutenzjoni tajba ħafna ta 'preċiżjoni dimensjonali u kisi tal-kontorn veru
- L-ebda tnaqqis fl-ebusija
- L-ebda influwenza ta 'l-istruttura kristallina ta' l-azzar b'għażla ta 'materjal adattat
Karatteristiċi ewlenin
- 1 .PVD Il-kamra tal-kisi hija struttura tat-tip kaxxa tal-bieb ta 'quddiem li hija magħmula minn steal li ma jissaddadx
- 2. L-ispeċifikazzjoni tal-kamra tal-kisi u d-daqs tal-fus tal-biċċiet tax-xogħol tissodisfa r-rekwiżiti ġenerali tal-ħtiġijiet tal-kisi
- 3. Sors ta 'l-ark huwa avvanzat u affidabbli
- 4. Magnetron sputter ċilindriku jew planari huma disponibbli
- 5. Kontroll awtomatiku jew manwali ta 'PLC huwa disponibbli
Għaliex tagħżel lilna?
Aħna ninnovaw teknika ġdida biex nagħmlu l-kowtijiet ikkuluriti PVD ħafna aktar diffiċli u durabbli minn oħrajn.Il-metodu ta 'depożizzjoni ġenerali tal-kisi jiksi l-prodott b'film ta' 1-2 mikroni refrattarju iebes ħoxnin, iżda nagħmluh eħxen għal reżistenza aħjar għall-ilbies, il-grif u l-korrużjoni li jagħmlu d-durabilità tiegħu superjuri għal metodi ta 'kisi ġenerali bħal electroplating jew proċessi PVD oħra.It-teknika PVD ġdida tagħna tista 'tinkiseb kisja PVD bla xkiel b'reżistenti tajba għall-grif meta mqabbla ma' proċessi PVD oħra wkoll.
Ikteb il-messaġġ tiegħek hawn u ibgħatilna
